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Chemisches Gasphasenabscheidungssystem (CVD)
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Chemisches Gasphasenabscheidungssystem (CVD)

The-Funktion:

 

Die Funktion des Systems zur chemischen Gasphasenabscheidung besteht darin, dünne Filme auf dem Substrat abzuscheiden, die Materialeigenschaften zu verbessern, funktionelle Geräte herzustellen, eine Oberflächenmodifizierung zu erreichen, die Dicke der dünnen Filme präzise zu steuern, die Produktqualität zu verbessern und die Forschung und Entwicklung zu unterstützen Verwendung neuer Materialien und zur Verwendung bei der Herstellung integrierter Schaltkreise usw. mit den Vorteilen einer hohen Prozesskontrollierbarkeit, der Möglichkeit einer Produktion in großem Maßstab und möglicherweise geringerer Kosten.

  • Zertifizierung :

    Calibration Certificate(cost additional)
  • Preis :

    Negotiable
  • Lieferzeit :

    30 days
  • Zahlungsbedingungen :

    L/C, T/T
  • Markenname :

    HCTE
  • Modellnummer :

    HCTE-VCM-003

Anwendungsbereich:

 

Dünnschichtabscheidung in der Halbleiterchipindustrie, Solarphotovoltaik, LED und anderen Branchen.

 

 

Produktmerkmale:

Speziell entwickeltes Gasverteilungs- und Strömungsfeld sowie automatisches Kontrollsystem für den Reaktionsdruck. Stellen Sie die Gleichmäßigkeit und Stabilität der Abscheidung sicher, um die Anforderungen der aktiven Schicht und der Passivierungsschicht hinsichtlich geringer Defekte des Dünnfilms und einer guten Grenzfläche zu erfüllen.

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